Современные проблемы науки и образованияrae.ru
Сетевое научное издание

Современные проблемы науки и образования

ISSN 2070-7428«Перечень» ВАКИФ РИНЦ = 0,936

ОПТИМИЗАЦИЯ ХАРАКТЕРИСТИК НАДЕЖНОСТИ ПУТЕМ РАЦИОНАЛЬНОГО РАЗМЕЩЕНИЯ ЭЛЕКТРОННЫХ ЭЛЕМЕНТОВ НА ПЛАТЕ С ТЕПЛОПРОВОДАМИ

Меркухин Е.Н. 1
1ФГБОУ ВО «Дагестанский государственный технический университет» Министерства образования и науки РФ

Задача обеспечения оптимального теплового режима относится к одной из важнейших задач проектирования, так как температура электронных элементов оказывает существенное влияние на надежность их функционирования [1]. Существует ряд способов решения данной задачи: снижение потребляемой мощности; активное охлаждение; пассивное охлаждение; рациональное размещение источников тепла.

Цель исследования

В данной работе рассматривается задача повышения надежности за счет оптимизации теплового режима печатной платы путем рационального размещения электронных элементов, являющихся источниками тепла.

Материал и методы исследования

В статье рассматривается вариант конструкции платы, представленный на рисунке 1. Плата имеет диэлектрическое основание, на котором наклеены в виде полос медные однотипные теплопроводы. Разногабаритные в общем случае интегральные микросхемы устанавливаются на теплопроводы, по которым отводится в одном направлении большая часть выделяемой ими тепловой энергии. Коэффициент теплопроводности материала теплопроводов на три порядка больше, чем материала платы. Хороший тепловой контакт интегральных микросхем с теплопроводом обеспечивается применением теплопроводной пасты. Плата эксплуатируется в разряженной атмосфере.

Указанные особенности конструкции и условий эксплуатации позволяют ввести следующие допущения: 1) теплопровод с источниками тепла теплоизолирован со всех сторон, кроме соединения с теплостоком; 2) тепловое контактное сопротивление между теплопроводом и источником тепла (корпусом микросхемы) не зависит от места его расположения на теплопроводе, и его влиянием на перегрев источника тепла можно пренебречь; 3) тепловой поток через поверхность контакта источника с теплопроводом однороден.

Введенные допущения позволяют рассмотреть каждый теплопровод в отдельности для определения оптимального порядка расположения на нем микросхем.

В [3] было выведено условие расположения микросхем на теплопроводе для стационарного теплового режима, минимизирующее максимальный перегрев теплопровода vтmax → min:

(1)

где - мощность рассеивания i-го по порядку источника, считая от теплостока;

- расстояние между источниками;

- размер (по оси Х) i-го по порядку источника, считая от теплостока.

Рассмотрим теперь задачу расположения микросхем (источников тепла) на теплопроводе минимизирующего интенсивность отказов электронного устройства.

Интенсивность отказов электронных элементов является в общем случае нелинейной функцией температуры. В диапазоне рабочих температур электронного аппарата зависимость интенсивности отказов электронных элементов от температуры может быть аппроксимирована линейной функцией вида [4]:

λi(ti)= λi0+ki(ti-t0),

где  λi(ti) - интенсивность отказов i-го электронного элемента при его рабочей температуре ti; λi0 - интенсивность отказов i-го электронного элемента при температуре окружающей среды t0;  ki - коэффициент линеаризации.

В [2] показано, что задачу размещения n источников тепла (электронных элементов), минимизирующего интенсивность отказов аппарата, можно свести к минимизации выражения:

, (2)

где vi – перегрев i-го электронного элемента относительно окружающей среды.

С учетом принятых выше допущений перегрев i-го по порядку источника тепла (интегральной микросхемы) относительно теплостока в точке с координатой (xi+li/2) можно определить по формуле:

vi= viсоб + v-iнав + v+iнав , (3)

где viсоб - собственный перегрев; v-iнав – перегрев, наведенный источниками тепла, стоящими на теплопроводе ближе к теплостоку, чем i-й по порядку источник; v+iнав - перегрев, наведенный источниками, стоящими на теплопроводе относительно теплостока дальше, чем i-й по порядку источник.

Вычисление трех составляющих выражения (3) осуществляется по формулам:

; ;

,

где - координаты центра посадочного места соответственно i-го, a-го и b-го по порядку источника; - мощности рассеивания соответственно i-го, a-го и b-го по порядку источника; St – площадь сечения теплопровода; lt – коэффициент теплопроводности материала теплопровода; n – количество источников на теплопроводе.

Для решения задачи (2) предлагается использовать метод ветвей и границ. При этом нижняя граничная оценка на нулевом шаге может быть вычислена следующим образом. Сначала все источники располагаются на теплопроводе в порядке, соответствующем требованию выражения (1), и для каждого из них вычисляется перегрев для нулевого шага (i = 1, 2,…, n). После этого величины упорядочиваются по неубыванию , а величины ki – по невозрастанию .

В качестве нижней граничной оценки на нулевом шаге принимаем величину:

. (4)

Далее все множество решений разбивается на n подмножеств:

.

Для каждого подмножества вычисляется нижняя граничная оценка. Подмножество включает в себя множество решений, когда первым по порядку стоит i-й источник (электронный элемент). Оценка подсчитывается следующим образом. Первым располагается i-й источник, а оставшиеся размещаются в порядке, соответствующем условию (1). Для всех электронных элементов вычисляются значения перегревов по формуле (3) и выполняется процедура, аналогичная вычислению . При этом нижняя граничная оценка уточняется:

. (5)

Для уменьшения трудоемкости вычислений можно ограничиться поиском вглубь на дереве решений, выбирая для ветвления каждый раз вершину с меньшей граничной оценкой.

Использование метода ветвей и границ позволяет найти одно из нехудших решений, а также получить оценку близости этого решения к оптимальному, сравнивая величины оценок на нулевом и последнем шаге.

Результаты исследования и их обсуждение

Рассмотрим пример использования предложенного метода. Чтобы не загромождать статью чрезмерным количеством расчетов, рассмотрим случай размещения на теплопроводе 5 микросхем. В таблице 1 приведены исходные параметры, необходимые для решения задачи предложенным методом (Δx=4 мм). Принятые значения коэффициентов ki согласуются с данными, приведенными в [5].

Таблица 1

Исходные параметры

Обозначение микросхемы

Длина микросхемы l (мм)

Мощность рассеивания

P (вт)

Отношение P/(l+Δx)

(Вт/мм)

Коэффициент линеаризации

k *10-6 (град-1час-1)

ИС 1

20

1,5

0,0625

0,015

ИС 2

30

2

0,0588

0,018

ИС 3

16

1,3

0,065

0,0020

ИС 4

20

1,2

0,050

0,025

ИС 5

14

0,9

0,050

0,012

Будем считать, что теплопровод медный (λt=380 вт/м* град) и площадь его сечения St= 0,000015 м2. В таблице 2 приведены результаты расчета перегревов микросхем по формуле (3) при их расположении, удовлетворяющем условию (1), и нижняя граничная оценка, рассчитанная по формуле (4):

=0,025*10-6*22,386+0,020*10-6*43,333+0,018*10-6*62,526+0,015*10-6*68,053+0,012*10-6*71,000=4,425*10-6 .

Если рассмотреть варианты размещения, когда на первом месте закреплена микросхема ИС 3, то нижняя граничная оценка уточняется по формуле (5):

= 0,020*10-6*22,386+0,025*10-6*43,333+0,018*10-6*62,526+0,015*10-6*68,053+0,012*10-6*71,000=4,529*10-6 .

Таблица 2

Результаты расчета перегревов микросхем

Порядок расположения микросхем на теплопроводе

Координата центра микросхемы

(м)

Коэффициент линеаризации

k*10-6 (град-1час-1)

 

Перегрев микросхемы

°С

Нижняя граничная оценка

ИС 3

0,012

0,020

22,386

4,425*10-6

 

ИС 1

0,034

0,015

43,333

ИС 2

0,063

0,018

62,526

ИС 5

0,089

0,025

68,053

ИС 4

0,110

0,012

71,000

Процедуру нахождения варианта размещения при использовании поиска вглубь на дереве решений иллюстрирует рис. 2.

Как видно из рисунка 2, наилучшее решение соответствует порядку размещения микросхем относительно теплостока: ИС 3, ИС 4, ИС 5, ИС 1, ИС 2. При этом можно количественно оценить качество полученного решения, сравнивая и :

.

Количественная оценка показывает, что значение критерия оптимизации для полученного решения отличается от оптимального решения не более чем на 4,25%.

Выводы

Проведенные исследования позволяют сделать вывод, что предложенный способ может быть использован в задачах размещения электронных элементов на платах с теплопроводами, эксплуатирующихся в условиях, оговоренных выше. Приведенный пример показывает, что за приемлемое количество шагов можно получить достаточно хорошее решение и дать ему количественную оценку.

Рецензенты:

Баламирзоев А.Г., д.т.н., профессор, профессор кафедры математики и информатики Махачкалинского филиала ФГБОУ ВПО «Московский автомобильно-дорожный государственный технический университет (МАДИ)», г. Махачкала.

Кобзаренко Д.Н., д.т.н., заведующий лабораторией информационных технологий в энергетике ФГБУН «Институт проблем геотермии ДНЦ РАН», г. Махачкала.


Библиографическая ссылка

Меркухин Е.Н. ОПТИМИЗАЦИЯ ХАРАКТЕРИСТИК НАДЕЖНОСТИ ПУТЕМ РАЦИОНАЛЬНОГО РАЗМЕЩЕНИЯ ЭЛЕКТРОННЫХ ЭЛЕМЕНТОВ НА ПЛАТЕ С ТЕПЛОПРОВОДАМИ // Современные проблемы науки и образования. 2015. № 2. С. 91-91;
URL: https://www.science-education.ru/article/view?id=22183 (дата обращения: 23.08.2026).